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| Aridus II膜去溶雾化系统 |
Aridus II膜去溶雾化系统是专为各种ICP-MS而研制开发，采用 CETAC公司最新的第二代膜去溶技术，具有如下特性：
Aridus II膜去溶雾化系统采用的低流量、Aspire微量雾化器，只需1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus II进样系统全部采用PFA惰性材料，可应用于含HF酸的样品。独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。 |
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Aridus II的工作原理:
样品经雾化器雾化成气溶胶后进入120℃的雾化室，样品气溶胶保持在蒸汽状态。从雾化室出来的样品气溶胶进入加热的“隔膜去溶”装置，利用“膜渗透”技术，分离样品气溶胶中的溶剂，利用一股反向的氩“穿透气”带走从膜渗透出来的溶剂蒸汽。从而使进入ICP的样品气几乎不存在溶剂部分，大大提高了分析的灵敏度、减少溶剂所带来的氧化物、氢化物干扰和溶剂对ICP的影响。 |
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| Aridus膜去溶能有效去除样品溶剂蒸汽，显著地减少诸如来自水中的氯化物、氢化物的干扰。（下图为）标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce比率的比较图，该CeO/Ce比率从3%减少为0.05%。 | ||||||||||||||||||||||||
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| 显著减小ICP-MS的干扰: Aridus II膜去溶雾化系统能有效去除样品溶剂蒸汽，显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰，右图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率，该CeO/Ce比率从3% 减少为0.03%。 其他水基的干扰ArH +（39）、CO2+（44）、ArO+（56）有明显的减少，从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。 |
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配备Aridus II的ICP-MS检出限：（在非冷焰的条件下，ELAN6000型ICP-MS）
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| 卓越的信号稳定性: | ||||||||||||||||||||||||
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Aridus II的7小时信号稳定性：RSD<1%（在100%的甲醇溶液中加1mg/L的标准） |
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