EPMA-8050G 电子探针显微分析仪(Electron Probe Microanalyzer)

商品编号：EPMA-8050G

货　　号：EPMA-8050G

品　　牌：日本岛津

计量单位：台

型号： EPMA-8050G

原产地：日本

类型：进口仪器

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实现微区超高灵敏度分析的先进技术

1　高亮度肖特基发射体
场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析不可缺少的稳定大电流。

2　 EPMA专用电子光学系统
电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的（日本专利：第4595778号）。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定最合适的打开角度，将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。

3　超高真空排气系统
电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。

4　高灵敏度X射线谱仪
最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。

超高分辨率面分析对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像（左侧）上直径只有50nm左右的Sn颗粒，在X射线图像（右侧）上也是清晰可见。

最尖端技术实现 ■ 无与伦比卓越的空间分辨率 EPMA可达到的最高级别的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV）分析条件下No.1的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA） ■ 二次电子图像最高分辨率3nm 碳喷镀金颗粒的观察实例。实现最高分辨率 3nm（@30kV）。相对较高的束流也可将电子束压细聚焦，更加容易的获得高分辨率的SEM图像。	■ 大束流超高灵敏度分析实现3.0μA（加速电压30kV）的最大束流。全束流范围无需更换物镜光阑。 ■ 最多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪无人可及的52.5°X射线取出角。 4英寸罗兰圆半径兼顾高灵敏度与高分辨率。最多可同时搭载5通道相同规格的X射线谱仪。 ■ 全部分析操作简单易懂全部操作仅靠一个鼠标就可进行的先进可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。
超高灵敏度面分析使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。精确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相（左侧），同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前（右侧）。

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